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재료

웨이퍼 세정 공정

오염을 제거하기 위한 세정 공정과 주요 화학 약품을 정리합니다.

초급
세정오염화학약품

개념 한 줄 요약

세정 공정은 웨이퍼 표면의 오염물을 제거해 공정 결함을 줄입니다.

왜 중요한가

미세 공정일수록 오염에 민감해 세정 품질이 수율과 직결됩니다. 웨이퍼와 소재 특성은 전공정과 후공정 품질을 동시에 좌우하는 기반으로 다뤄집니다.

핵심 개념 3가지

  • RCA 세정은 유기물과 금속 오염을 제거한다
  • 입자 제거와 표면 손상 방지가 중요하다
  • 세정 후 건조가 재오염을 막는다

간단 예시 또는 비유

먼지를 닦아내기 전에는 도장이 제대로 붙지 않는 것과 같습니다.

실무에서 연결되는 지점

  • 웨이퍼는 전공정과 후공정의 기준이 되는 핵심 소재로 다뤄집니다.
  • 전공정에서 형성된 패턴은 이후 절단·조립·패키징으로 이어집니다.
  • 공정 중간의 측정·분석이 물질 특성(두께, 성분)을 확인하는 역할을 합니다.
  • 재료/신소재 전공 지식이 공정 기술 역량과 연결됩니다.

확장 학습

  • Dry cleaning과 Wet cleaning 비교
  • 세정 후 표면 거칠기 관리