정의 EUV는 극자외선(13.5nm)을 이용해 미세 패턴을 구현하는 노광 기술입니다. 왜 중요한가 ArF 한계를 넘기 위해 필수적인 기술로 평가됩니다. 관련 용어 노광 포토마스크 멀티패터닝